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一、鉭靶簡介
1. 牌號:RO5200，RO5400
2. 純度：≥99.95%
3. 工藝：冷軋，酸洗，剪切而成
4. 技術條件：符合GB3269-83(鉭及鉭合金板材、帶材和箔材)，
5.標準：
GB/T3628-1995(鉭及鉭合金箔材)，
ASTM B708-92(鉭和鉭合金中厚板、薄板、帶材和箔材)
二、鉭材應用領域
1. 主要用于鍍膜工藝，以及在航空、航天工業(yè)、醫(yī)療器械等領域。
2. 可用來制造蒸發(fā)器皿等，
3. 電子管的電極、整流器、電解電容。
4. 醫(yī)療上用來制成薄片或細線，縫補破壞的組織。
5. 鉭被制造成了電容裝備到軍用設備中。
三、鉭靶牌號、狀態(tài)和規(guī)格見表1：
牌號 | 供應狀態(tài) | 規(guī)格(mm) | 品種 | ||
厚度 | 寬度 | 長度 | |||
Ta1 Ta2 R05200 R05400 R05255(Ta10W) R05252(Ta2.5W) Ta7.5W | 硬狀態(tài)(Y) | 0.025～0.09 | <150 | >200 | 箔材 |
硬狀態(tài)(Y) 軟狀態(tài)(M) | 0.1～0.5 | 50～300 | 100～2000 | 帶材 板材 | |
>0.5～2.0 | 50～500 | 50～1200 | 板材 | ||
>2.0～6.0 | 50～500 | 50～1200 | |||
厚度、寬度、長度及允許偏差見表2：
表2 單位：mm
厚度 | 厚度允許偏差 | 寬度 | 寬度允許偏差 | 長度 | 長度允許偏差 | |
Ⅰ級 | Ⅱ級 | |||||
0.025～0.07 | ±0.005 | ±0.006 | 70～150 | ±2.0 | ≥1000 | — |
>0.07～0.09 | ±0.006 | ±0.008 | 70～150 | ±2.0 | ≥1000 | — |
0.1～0.20 | ±0.015 | ±0.02 | 50～300 | ±2.0 | 100～2000 | ±3.0 |
>0.2～0.30 | ±0.02 | ±0.03 | 50～300 | ±2.0 | 100～2000 | ±3.0 |
>0.30～0.50 | ±0.03 | ±0.04 | 50～500 | ±2.0 | 100～2000 | ±3.0 |
>0.50～0.80 | ±0.04 | ±0.06 | 50～500 | ±2.0 | 50～1200 | ±3.0 |
>0.80～1.0 | ±0.06 | ±0.08 | 50～500 | ±2.0 | 50～1200 | ±3.0 |
>1.0～1.5 | ±0.08 | ±0.10 | 50～500 | ±3.0 | 50～1200 | ±4.0 |
>1.5～2.0 | ±0.12 | ±0.14 | 50～500 | ±3.0 | 50～1200 | ±4.0 |
>2.0～3.0 | ±0.16 | ±0.18 | 50～500 | ±5.0 | 50～1200 | ±5.0 |
>3.0～4.0 | ±0.18 | ±0.20 | 50～500 | ±5.0 | 50～1200 | ±5.0 |
>4.0～6.0 | ±0.12 | ±0.24 | 50～500 | ±5.0 | 50～1200 | ±5.0 |
>6.0～30.0 | ±0.24 | ±0.50 | 50～500 | ±5 | 50～1200 | ±5.0 |
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